北京觀察》中國生產自研DUV光刻機：從突破封鎖到挑戰ASML，還有多遠？

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ASML深紫外光（DUV）微影設備。（照片來源：ASML）

中國已開始量產自主研發的浸沒式（Immersion）DUV（Deep Ultraviolet，深紫外）光刻機，今年預計交付約五台設備，首批客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及長鑫存儲（CXMT）。這也是中國首次進入浸沒式DUV光刻機的量產階段，被視為北京推動半導體自主供應鏈的重要里程碑。

據悉，這項計畫由上海愛生納電子科技集團（Shanghai Aishengna Electronic Technology Group）主導這項計畫，今年預計交付約五台，客戶包括中芯國際、華虹半導體與長鑫存儲，明年產量目標約二十台。

目前主導生產的這家上海公司，成立於2023年8月，註冊資本逾七十億元人民幣，由上海電氣控股與上海國際信託旗下國企持股，幾乎沒有公開官網或營運資訊，包括使用中國ip地址在「企查查」、「天眼查」上也很難找到相關訊息。

據悉，它整合多家光刻初創團隊，包括國資背景的上海宇量昇（或稱御量昇、宇量升）科技，以及上海微電子裝備的資源。宇量昇去年已向部分晶圓廠送交原型機，中芯國際自2025年9月起進行測試。

由於陸產DUV仍處於測試與驗證階段。DUV雖可透過多重曝光（Multi-patterning）製造較先進晶片，但成本、良率及生產效率均不如EUV。

一些中國科技博主在社交媒體上表示「性能與製造品質與ASML成熟機種仍有明顯差距，在套刻精度、產能吞吐量、良率與可靠性等方面都需長期調校」。這些博主們還稱「大部分零件已國產化，但部分關鍵組件仍依賴日本供應商，國內供應延遲也拖慢進度。設備正式導入量產線前，驗證過程可能需數月甚至更久」。

相較之下，ASML去年交付約一百三十一台浸沒式DUV系統。陸產設備產量有限，短期內難以構成實質商業威脅。

在相關消息傳出後，ASML股價一度重挫逾8%，歐洲與亞洲相關晶片股同步下挫。市場解讀為中國半導體設備自主化的又一步，長期可能侵蝕ASML在中國市場的營收（今年預估約占其淨銷售額兩成）。美國國會正審議進一步擴大浸沒式DUV出口限制的法案，這反而強化中國加速自研的誘因。

近年美國持續擴大對中國半導體設備出口限制，不僅禁止ASML出口EUV光刻機，近年更逐步限制部分高階浸沒式DUV設備出口，使中國晶圓廠面臨設備取得與後續維修的不確定性。

在此背景下，北京推動國產光刻設備，核心目標未必是立即超越ASML，而是降低對海外供應鏈的依賴。

即使國產設備效率較低、生產速度較慢，只要能穩定取得、持續維護，對中國晶圓廠而言，仍可能比受制於出口管制的進口設備更具戰略價值。

也因此，中芯國際、華虹半導體與長鑫存儲被視為首批導入客戶並不令人意外。對這些企業而言，建立可持續運作的國產設備體系，本身就是降低地緣政治風險的重要一步。

美國出口管制原意是限制中國取得先進半導體技術，但同時也迫使中國投入更多國家資源，自建完整半導體設備體系。

在地緣政治持續升溫、出口限制不斷加碼的背景下，中國建立自主光刻設備產業鏈的速度，將成為全球半導體產業未來數年最值得觀察的變數之一。

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